События

Технология и оборудование для наноимпринтной литографии и производства 3D-наноструктур

ЗАО Предприятие Остек и австрийская компания EVG приглашают Вас на технологический семинар, который состоится 7 октября 2009 года в рамках деловой программы второго Международного форума по нанотехнологиям "Rusnanotech" 2009.

У Вас есть уникальная возможность получить актуальную информацию по оборудованию и технологиям для наноимпринтной литографии и производству 3D-наноструктур.

План семинара:

10:00    Введение. Презентация ЗАО Предприятие Остек.

10:20    Презентация компании EVG.

10:40    Возможности сотрудничества с институтом Фраунгофера (Fraunhofer institute for Integrated Systems and Device Technology) в области разработки и внедрения современных нанотехнологических процессов.

11:00   Тенденции 3D-интеграции, обзор технологий получения сквозных отверстий в кремнии и создания 3D-межсоединений.

12:00    Кофе-пауза.

12:30    Технологии получения сквозных отверстий в кремнии, предлагаемые компанией EVG.

13:00    Наноимпринтная литография – новое поколение многоэтапной литографии для внедрения технологий МЭМС в производство наноструктур.

14.30    Обед. Подведение итогов.

Мероприятие ориентировано на широкий круг специалистов в области производства электронных компонентов с целью предоставления новейшей информации о преимуществах передовых технологий.

Участие в семинаре бесплатное.

Зарегистрироваться для участия в семинаре можно на сайте ЗАО Предприятие Остек, а также по тел. +7 (495) 788 44 44 либо по электронной почте: micro@ostec-smt.ru. Срок окончания регистрации участников - 02 октября 2009 г.

Время проведения: 07 октября 2009 г., с  10:00  до 15:30.

Место проведения: ЦВК "Экспоцентр", Москва, Краснопресненская наб., 14

Для получения дополнительной информации обращайтесь к специалистам направления производства электронных компонентов ЗАО Предприятие Остек по тел.: +7 (495) 788-44-44, e-mail micro@ostec-smt.ru.

Информация с сайта www.ostec-smt.ru.