Новое оборудование и материалы
25 марта 2014
Оборудование для металлизации тонких пленок методом короткоимпульсного лазерного осаждения
Изображения с сайта www.picodeon.com
Компания Picodeon разработала технологию металлизации тонких пленок методом короткоимпульсного лазерного осаждения (ultra-short pulsed laser deposition, USPLD), который позволяет создавать пористые или плотные покрытия из оксида алюминия Al2O3 на основаниях чувствительных к повышенным температурам.

Пористые слои Al2O3 могут применяться, например, в фильтрах и как слои, обеспечивающие электрическую изоляцию.

Плотные слои Al2O3 могут применяться в качестве барьерных слоев, а также в качестве превосходного оптически-прозрачного покрытия.
Оборудование пакетного нанесения покрытий Coldab® Series4 обеспечивает прецизионное микроструктурное управление свойствами получаемых покрытий Al2O3 путем простого задания и поддержания параметров процесса нанесения покрытий благодаря встроенной системе непрерывного мониторинга плазмы и измерения мощности лазерного излучения.

Испытательные запуски показали, что система способна повысить пористость покрытия Al2O3 толщиной 3 мкм на 10—45% посредством подстройки скорости сканирования и частоты повторений и мощности лазерного излучения.
В ходе испытаний покрытие Al2O3 наносилось на чувствительные к нагреву пленочные основания из полиэтилена и термопластичного полиуретана. Это стало возможным благодаря низкой температуре техпроцесса, которая требуется для нанесения покрытий при помощи системы Picodeon’s Coldab® USPLD, и это одно из основных преимуществ разработанного техпроцесса.
По материалам www.picodeon.com.
|