Уважаемые пользователи! Приглашаем Вас на обновленный сайт проекта: https://industry-hunter.com/
Новая модификация установки для плазмохимического осаждения Apex SLR компании Advanced Vacuum - ЭЛИНФОРМ
Информационный портал по технологиям производства электроники
Новая модификация установки для плазмохимического осаждения Apex SLR компании Advanced Vacuum  - ЭЛИНФОРМ
На главную страницу Обратная связь Карта сайта

Скоро!

Событий нет.
Главная » Новости » Новое оборудование и материалы » Новая модификация установки для плазмохимического осаждения Apex SLR компании Advanced Vacuum

Новое оборудование и материалы

16 июля 2014

Новая модификация установки для плазмохимического осаждения Apex SLR компании Advanced Vacuum

Изображение с сайта dipaul.ru

Компания Advanced Vacuum представила новую модификацию своей установки Apex SLR. Теперь на базе платформы Apex SLR реализованы процессы плазмохимического осаждения: PECVD и HDPCVD.

Низкотемпературный HDPCVD-процесс в установке Apex SLR HDPCVD позволяет осаждать материалы плазмохимическим способом при температурах менее +180 °С, вплоть до комнатной. Типичные скорости осаждения SiO2 и SiNx при температуре менее +150 °С составляют 1500 А/мин и 1000 А/мин соответственно. Однородность осажденного слоя по пластине диаметром 200 мм и однородность от одной партии пластин к другой партии составляет порядка +/-2% или лучше. Для достижения высокой плотности плазмы в установке Apex SLR HDPCVD имеется реактор с цилиндрическим ICP-электродом, который также предусмотрен в установке травления Apex SLR ICP. В конструкции реактора и электрода Apex SLR использован дизайн установок Plasma-Therm Shuttlelock, прекрасно зарекомендовавших себя по всему миру (более 300 инсталляций).

Платформа Apex — последняя разработка компании Advanced Vacuum. Первые заказчики получили установки травления Apex SLR ICP в начале 2013 года. В 2014 году начались поставки установок в версиях PECVD и HDPCVD. Apex — наиболее современная, универсальная и экономически эффективная платформа плазмохимического травления и осаждения материалов во всей линейке оборудования Advanced Vacuum и Plasma-Therm.

Архитектура платформы Apex реализует последние достижения отрасли в области автоматизации и машиностроения. Благодаря применению современных промышленных протоколов Ethernet и DeviceNet, количество проводов внутри установки значительно сократилось. Как следствие, уменьшилась себестоимость производства установки, увеличилась ее надежность. Процедура проведения пусконаладочных работ и сервисного обслуживания значительно упростилась. Применение протокола DeviceNet также позволило контролировать большее количество параметров оборудования, входящего в состав установки, — температуру внутренних компонентов насосов, состояние различных датчиков. Схема построения системы управления установкой на базе программируемого логического контроллера (ПЛК) способствовала повышению стабильности и безопасности платформы, особенно при использовании токсичных и легковоспламеняющихся газов. Набор программных и физических блокировок (интерлоков) обеспечивает безопасную работу даже при экстренных отключениях электропитания.

Платформа Apex в стандартной комплектации поставляется с загрузочным вакуумным шлюзом. Шлюз новой модификации допускает работу с пластинами до 200 мм в диаметре. Применение в конструкции шлюза роботизированной руки сократило габариты шлюза до минимальных размеров. Общие габариты установки удалось довести до значения <1 м2, что позволяет наиболее эффективно использовать место в чистом производственном помещении.

Отдельно следует отметить систему управления установкой Apex. Для удобства оператора на отдельную панель, расположенную на вакуумном шлюзе, выведены четыре кнопки управления основными функциями. В реальном производственном режиме, когда исполняемый рецепт записан в память установки, оператору больше не нужно подходить к управляющему компьютеру. Достаточно использовать четыре физических кнопки управления: напуск/откачка; загрузка/выгрузка; процесс; очистка камеры. Такое простое и изящное решение в системе управления значительно упрощает работу оператора и повышает производительность процесса.

Смотрите более подробное описание установки:

Установка низкотемпературного плазмохимического осаждения Apex SLR HDPCVD.

Информация с сайта dipaul.ru.





Последние новости

АРПЭ провела практическую конференцию "Экспорт российской электроники"
подробнее
Портфельная компания РОСНАНО «РСТ-Инвент» разработала RFID-метки нового поколения WinnyTag Duo
подробнее
Научно-технический семинар «Электромагнитная совместимость. Испытательные комплексы для сертификационных и предварительных испытаний военного, авиационного и гражданского оборудования»
подробнее
Официальное представительство Корпорации Microsemi примет участие в выставке «ЭкспоЭлектроника» 2018
подробнее
Новое оборудование в Технопарке Зубово
подробнее
Избраны органы управления Технологической платформы «СВЧ технологии»
подробнее
«Рязанский Радиозавод» внедряет инструменты бережливого производства
подробнее
© “Элинформ” 2007-2025.
Информационный портал для производителей электроники:
монтаж печатных плат, бессвинцовые технологии, поверхностный монтаж, производство электроники, автоматизация производства