Новое оборудование и материалы

Установка для удаления фоторезиста — Matrix 105R

Фотография с сайта dev.allwin21.com

Компания Allwin21 Corp. (США) представила новую установку для удаления фоторезиста — Matrix 105R.

Allwin21 Corp. более 10 лет проводит восстановление и апгрейд установок Matrix 10X и прекрасно знает конструкцию и особенности этих систем.

Установка Matrix 105R — это абсолютно новая система, которая соответствует современным требованиям полупроводникового производства.

Основные отличия Matrix 105R от ОЕМ установки Matrix 105:

• новый атмосферный робот с новым контроллером;
• стационарная станция для кассеты;
• модуль выравнивания пластин;
• новая система управления с графическим интерфейсом и сенсорным экраном;
• создание рецептов через графический интерфейс, сохранение истории обработки на жестком диске;
• отображение параметров процесса в режиме реального времени;
• интерфейс GEM/SECS-II.

Применение установки Matrix 105R:

• Удаление фоторезиста после ионной имплантации с высокой дозой (As+, B+, P+).
• Реставрация пластин.
• Удаление фоторезиста после травления поликремния.
• Удаление фоторезиста после травления оксида.
• Удаление фоторезиста после травления металлов.
• Удаление непроявленного фоторезиста после проявления.

Установка Matrix 105R позволяет обрабатывать пластины размером 50 мм, 75 мм, 100 мм, 125 мм, 150 мм, а также нестандартные подложки. Matrix 105R идеально подходит для обработки GaAs-пластин.

Подробное описание установки Matrix 105R смотрите на сайте компании Allwin21 Corp.

Установка для удаления фоторезиста Matrix 105R.

Информация предоставлена компанией Allwin21 Corp. (Россия).