Уважаемые пользователи! Приглашаем Вас на обновленный сайт проекта: https://industry-hunter.com/
Системы плазменной очистки от компании Budatec - ЭЛИНФОРМ
Информационный портал по технологиям производства электроники
Системы плазменной очистки от компании Budatec  - ЭЛИНФОРМ
На главную страницу Обратная связь Карта сайта

Скоро!

Событий нет.
Главная » Новости » Новое оборудование и материалы » Системы плазменной очистки от компании Budatec

Новое оборудование и материалы

27 февраля 2015

Системы плазменной очистки от компании Budatec 

Изображение с сайта avanteh.ru

Компания Budatec – немецкий производитель систем вакуумной пайки – разработала системы плазменной очистки для изделий микроэлектроники. У завода-изготовителя уже был опыт выпуска подобных систем, которые устанавливались в рабочую камеру вакуумных печей. Положительный опыт использования плазменной очистки при пайке показал, что технология может быть использована в отдельно стоящей машине, как самостоятельное устройство. Разделение операции пайки и предварительной очистки паяемых поверхностей позволяет значительно увеличить скорость выпуска продукции.

Преимущества предварительной обработки поверхностей при помощи плазмы:

  • увеличение поверхностного натяжения за счет выравнивания микронеровностей;
  • удаление оксидного слоя (при использовании водорода) и устранение органических загрязнений (при использовании кислорода);
  • улучшение смачиваемости и растекаемости;
  • стандартизация процесса пайки за счет улучшения однородности паяного соединения;
  • упрощение процесса пайки с более высокой технологической осуществимостью;
  • возможность «регенерации» подержанных конструктивных элементов (крышки, корпусы, основания печатных плат).

При производстве устройств микроэлектроники преимущественно используется высокочастотная плазма в мегагерцовом (RF-генератор) или гигагерцевом диапазоне (MW-генератор). Ввиду способности к оптимальному удалению пустот при обработке спаиваемых поверхностей плазмой для ионизации используются частоты магнетронов в диапазоне 2,43 ГГц. Предпочтение отдается формир-газу, содержащему 60 % водорода и 40 % аргона. Повреждения компонентов, вызванные плазмой, маловероятны. Таким образом, этот метод обеспечивает возможность отказа от флюса при мягкой пайке. С характеристиками оборудования для плазменной очистки вы можете ознакомиться по этой ссылке.

Информация с сайта avanteh.ru.





Последние новости

АРПЭ провела практическую конференцию "Экспорт российской электроники"
подробнее
Портфельная компания РОСНАНО «РСТ-Инвент» разработала RFID-метки нового поколения WinnyTag Duo
подробнее
Научно-технический семинар «Электромагнитная совместимость. Испытательные комплексы для сертификационных и предварительных испытаний военного, авиационного и гражданского оборудования»
подробнее
Официальное представительство Корпорации Microsemi примет участие в выставке «ЭкспоЭлектроника» 2018
подробнее
Новое оборудование в Технопарке Зубово
подробнее
Избраны органы управления Технологической платформы «СВЧ технологии»
подробнее
«Рязанский Радиозавод» внедряет инструменты бережливого производства
подробнее
© “Элинформ” 2007-2025.
Информационный портал для производителей электроники:
монтаж печатных плат, бессвинцовые технологии, поверхностный монтаж, производство электроники, автоматизация производства