Новое оборудование и материалы
05 мая 2015
Компания ZESTRON представит pH-нейтральные моющие средства на выставках-форумах SMTA в Мичигане и Орегоне
Компания ZESTRON создает pH-нейтральные моющие средства с 2009 года. В дополнение к материалу VIGON® N 600, предназначенному для удаления остатков флюса с печатных плат, последние разработки включают средства VIGON® PE 180 и HYDRON® SE 220 для удаления остатков флюсов при изготовлении силовых электронных устройств и полупроводниковых изделий.
Материал VIGON® PE 180, в котором применяется технология MPC® (Micro Phase Cleaning), представляет собой моющее средство для струйной отмывки в воздухе. Оно удаляет остатки флюсов с выводных рамок, изделий с дискретными компонентами, силовых модулей и мощных светодиодов после присоединения кристаллов и/или припайки радиаторов.
Материал HYDRON® SE 220 – это однофазное моющее средство на водной основе, предназначенное для отмывки с погружением и УЗ-отмывки. Оно позволяет удалять остатки флюсов с широкого спектра полупроводниковых изделий. Средство легко смывается и обеспечивает оптимальные характеристики поверхности для последующих операций, таких как проволочная разварка и литье.
По информации с сайта www.zestron.com
|