Новости практической технологии

Leti и EVG запустили новую программу INSPIRE

Институт CEA-Leti и компания EV Group (EVG) запустили новую программу по наноимпринтной литографии под названием INSPIRE для того, чтобы показать преимущества гибкой и мощной технологии выполнения рисунков наноуровня и расширить ее применение за пределы отрасли полупроводников.

Помимо установления промышленного сотрудничества для разработки решений для наноимпринтной литографии, в задачи программы INSPIRE также входит демонстрация преимуществ технологии в плане стоимости владения для многих областей применения, таких как фотоника, плазмоника, освещение, фотовольтаика, оптика на уровне пластины и биотехнологии.

Leti и EVG будут совместно поддерживать развитие новых областей применения начиная со стадии оценки целесообразности и заканчивая поддержкой начальных этапов производства на платформах компании EVG и трансфером интегрированных технологических решений своим промышленным партнерам, тем самым значительно снижая барьер вхождения для внедрения наноимпринтной литографии в производство новой продукции.

По информации с сайта www.evgroup.com