Новое оборудование и материалы
06 сентября 2016
Новая система коррекции фотошаблонов ZEISS ForTune от компании ZEISS
Компания ZEISS представляет новую систему ZEISS ForTune для коррекции фотошаблонов. Благодаря новейшей оптической системе данная установка выводит два основных процесса коррекции фотошаблонов на новый уровень с точки зрения эффективности, точности и производительности. Первая установка уже передана первому заказчику.
Новая система ZEISS ForTune для коррекции фотошаблонов сочетает возможности установок ZEISS CDC и RegC® в одной передовой системе, благодаря чему улучшение совмещения фотошаблонов и однородности минимальных элементов могут быть выполнены в одном процессе. Это помогает:
- Расширить окно процесса литографии и снизить образования «горячих пятен» в области рисунков пластины (с помощью технологии CDC)
- Улучшить наложение на изделие и размещение рисунка фотошаблона в области рисунков пластины (с помощью технологии RegC®)
Система была впервые представлена заказчикам из отрасли изготовления пластин на выставке SEMICON West в Сан-Франциско, США в июле 2016 г. и была высоко оценена. Еще одна презентация новой системы пройдет на конференции SPIE Photomask Conference в сентябре 2016 г. в Сан-Хосе, США.
Данная система коррекции фотошаблонов нового поколения уже успешно поставлена производителю кристаллов, расположенному в США, который заказал новую систему ZEISS ForTune ранее в этом году.
По информации с сайта www.zeiss.com
|