Новости практической технологии

MIT: оптическая литография применима для 12-нм техпроцесса

Было время, когда никто не верил, что с помощью традиционных инструментов и привычной оптической литографии будут выпускаться чипы с нормами 45-нм техпроцесса. Да что там 45-нм: в своё время сомнению подвергалась даже возможность работы с 65-нм нормами. Однако разработчики из Массачусетского технологического Института (Massachusetts Institute of Technology, MIT) на этой неделе поразили даже видавших виды заявлением о том, что жизнь оптической литографии может быть продлена вплоть до 12-нм техпроцесса включительно.

Представители лаборатории Space Nanotecnology Laboratory при MIT продемонстрировали успешные результаты экспериментов с применением 25-нм норм, используя при этом новую технологию под названием "литография интерференции сканирующего луча" (scanning beam interference lithography). Благодаря проведённым экспериментам учёные на полном на то основании утверждают, что при использовании интерференсной технологии оптическая литография ограничена разве что неравномерностью поверхностей материала и применима вплоть до 12-нм техпроцессов.

Особенность интерференсной литографии заключается в использовании одновременно двух лазеров с разными длинами волн, в результате интерференции которых возникает сетчатый рисунок с более высоким разрешением, нежели этого можно добиться от каждого лазера по отдельности. Не оптические ограничения при применении интерференсной литографии сужают сферу их использование для работы с фоторезистами, поэтому исследователи добавили к этой технологии сканирование. Применение интерференсной литографии сканирующего луча обуславливает постоянное движение воды, в отличие от традиционной интерференсной литографии, где вода неподвижна, и это вызывает смещение частот лазеров в результате допплеровского эффекта. Исследователям из MIT удалось решить эту проблему синхронизацией изображения сетки с движением воды используя звуковые волны, которые вибрируют в такт с кристаллами лазеров и синхронно смещают их частоты вверх и вниз.

Так или иначе, но технология уже на пути к коммерциализации, для этого совсем недавно была создана литографическая компания Plymouth Grating Laboratory (Плимут, Массачусетс). Финансирование исследований производилось лабораторией Space Nanotechnology Laboratory, институтом астрофизики Kavli Institute of Astrophysics, NASA и фондом National Science Foundation.

Информация с сайта www.3dnews.ru со ссылкой на eetimes.com.