Новое оборудование и материалы

DEK Cyclone Duo: Совершенная очистка трафаретов с нижней стороны за один проход

Технология Cyclone Duo от DEK обеспечивает максимальную эффективность и качество при очистке нижней стороны трафаретов. Данная технология выполняет циклы влажной очистки и вакуумной сушки за один проход. Это значительно повышает производительность печати, а также снижает затраты на протирочную ткань и моющее средство на величину до 50%.

Инновационные возможности DEK Cyclone стали еще лучше в передовой системе DEK Cyclone Duo. Данная система очистки свободно конфигурируется, и индивидуальные времена очистки могут свободно комбинироваться с колебательными движениями картриджей и подачей ткани.

Краткое описание преимуществ:

• Значительно более быстрая очистка трафаретов снизу (на величину до 50% в сравнении с традиционными методами очистки)
• Комбинированные циклы очистки снижают расход материалов
• Благодаря имеющемуся в комплекте запасному картриджу моющее средство и ткань могут заправляться вне установки
• Замена картриджа занимает менее 1 минуты
• Максимальная стабильность процесса для выдающихся результатов очистки

По информации с сайта www.siplace.com