Новое оборудование и материалы
10 мая 2017
Новые модели установок для плазменной обработки поверхностей
Компания PVA Tepla сообщила о выпуске новых моделей в линейке оборудования для плазменной обработки поверхностей. Новые установки IoN 3B и IoN 7B позволяют проводить очистку поверхностей в различных газовых средах, имеют регулируемый диапазон частот генератора плазмы (20 – 100 кГц), а также возможность использования RF-генератора с частотой 13,56 кГц или 13,56 МГц.
Улучшенные модели IoN 3B, 7B применяются для:
- Очистки полупроводниковых, стеклянных, керамических подложек и печатных плат от поверхностных загрязнений;
- Плазменной активации поверхности для улучшения адгезии перед процессами монтажа кристаллов и компонентов, микросварки;
- Мягкого плазменного травления материалов в производстве полупроводниковых устройств.
Информация с сайта www.eurointech.ru.
|