Новое оборудование и материалы

Компания Teknek выпустила систему контактной очистки поверхности печатных плат Nanocleen

Фото с сайта www.globalsmt.net

После окончания двухлетних исследований и разработок, компания Teknek объявила о выпуске нового поколения системы Nanocleen, предназначенной для контактной очистки поверхности печатных плат с развитыми возможностями по удалению загрязнений и защите от статического электричества.

Основой системы Nanocleen являются специальный полимерный и клейкий валики. Среди преимуществ системы производитель выделяет следующие:

• уникальный полимерный валик может удалять гораздо меньшие частицы размером вплоть до 25 нм, что важно для современных электронных схем, миниатюризация которых повышает их восприимчивость к загрязнениям;
• высокоэффективный валик Nanocleen может удалять на 25-50% частиц больше, чем прочие системы контактной очистки;
• валик, помимо удаления загрязнений, рассеивает статическое электричество; его уровень уменьшается в 10 раз по сравнению с прочими системами контактной очистки;
• полимерный и клейкий валики на 100% не содержат силикона, который может загрязнить производственную линию.

Система Nanocleen может устанавливаться в старые и новые версии оборудования для очистки Teknek Clean Machine, а также в другие системы контактной очистки, с использованием дополнительного комплекта для модернизации оборудования.

Более подробная информация – на сайте производителя, компании Teknek: www.teknek.com.

Информация с сайта www.globalsmt.net.