Новости перспективных технологий

Рентгеновскую астрономию удалось применить для производства электронных компонентов

Разработанная для рентгеновских телескопов оптика найдёт применение в производстве электронных компонентов со сверхвысокими характеристиками.

Как сообщает пресс-служба Европейского космического агентства ESA, технологии, разработанные при создании рентгеновского телескопа XMM-Newton, нашли применение при создании оптики для литографии сверхвысокого разрешения.

На первой космической рентгеновской обсерватории - американском спутнике Uhuru, запущенном в 1970 году с итальянского морского космодрома, использовался простейший рентгеновский телескоп коллиматорного типа. Такая оптика, однако, не может обеспечить высокое разрешение и светосилу. Для этого нужны собирающие излучение оптические системы.

Жёсткое рентгеновское излучение невозможно сфокусировать для получения изображения «обычным» зеркалом - требования к качеству поверхности становятся запредельно высокими.

Выход - создание оптических систем «скользящего» угла падения - зеркал, на которые свет падает под очень пологим углом. Именно по такой схеме работают рентгеновские телескопы современных космических обсерваторий.

Для обсерватории XMM-Newton рентгеновская оптика была создана итальянской компанией Media Lario Technologies. Площадь золотого покрытия оптических элементов составила 200 квадратных метров. При этом качество позолоченной поверхности выдержано на атомарном уровне.

После успешного запуска телескопа XMM-Newton в 1999 году компания использовала разработанные «для космоса» технологии при создании оптических систем установок литографии сверхвысокого разрешения, использующих жёсткое ультрафиолетовое излучение – с уменьшением длины волны излучения литографических систем связывается дальнейший прогресс в микроэлектронике.

Создана сверхтонкая литографическая зеркальная оптика скользящего угла падения на зеркальной подложке толщиной от 0,4 мм до 1 мм. Геометрическая точность покрытия зеркал – не хуже 0,4 нм.

Предполагается, что уже в 2011 году будет развёрнуто малосерийное производство чипов с использованием ультрафиолетовой литографии и новых оптических элементов.

После отработки технологического цикла начнётся серийное производство чипов по новой технологии. Указывается, что переход на литографию в жёстком ультрафиолете позволит на два порядка повысить быстродействие и плотность компоновки элементов.

Информация с сайта www.cnews.ru.