Новое оборудование и материалы
13 декабря 2010
Компания GPD Global представляет технологию дозирования PCD
Гранд Джанкшен, Колорадо, США
Фото с сайта www.gpd-global.com
Компания GPD Global, специализирующаяся на выпуске систем дозирования, представляет технологию нового поколения устройств объемного дозирования – технологию прямого вытеснения с образованием полостей (Positive Cavity Displacement, PCD). Жидкотекучие материалы наносятся на основание из люэровских наконечников, а производительность увеличивается с использованием конических наконечников типа ”S” от компании GPD Global. Как утверждает производитель, метод дозирования не зависит от колебаний температуры или давления в резервуаре.
![](/data/news/Image/2010/pcd_rotor.jpg)
При параллельных испытаниях, по словам производителя, технология PCD продемонстрировала значительное увеличение производительности и сокращение времени цикла по сравнению с методами шнекового и струйного дозирования, с помощью предлагаемой возможно дозирование объемов вплоть до 1 нл при сохранении способности наносить валики и заполнять площади.
С помощью технологии дозирования с образованием полостей можно дозировать жидкотекучие материалы с высокой и низкой вязкостью с повторяемостью ±1%. Технология PCD совместима с материалами, применяемыми в сборке электроники, такими как эпоксидные материалы, материалы тепловых интерфейсов, материалы для подзаливки, масла, силиконы и УФ-отверждаемые герметики, а также с материалами вне сферы электроники.
Более подробная информация о технологии PCD – на сайте разработчика, компании GPD Global: www.gpd-global.com.
Информация с сайта www.circuitnet.com.
|