Новое оборудование и материалы

Компания Plasma Etch выпускает систему PE-100 Convertible

Изображение с сайта globalsmt.net

Компания Plasma Etch представляет новейшую плазменную систему, совмещающую два различных технологических режима плазменной чистки в одной, полностью автономной системе плазменной чистки/травления.

Система PE-100 Convertible позволяет пользователю переключаться между анизотропным режимом реактивного ионного травления (Reactive Ion Etching, RIE) и изотропным режимом травления/очистки. Обычно, для достижения такой возможности, требовались две раздельные системы плазменной очистки.

Система PE-100 Convertible используется в производстве медицинской аппаратуры, солнечных элементов, нанотехнологиях, оптических приложениях, производстве печатных плат, МЭМС, лабораторных исследованиях, и во многих других приложениях, связанных с обработкой полупроводников.

Более подробная информация на сайте plasmaetch.com.

По материалам globalsmt.net.