Новое оборудование и материалы
24 февраля 2012
Компания EV Group представила систему совмещения фотошаблонов второго поколения для производства светодиодов EVG620HBL
Изображение с сайта ostec-micro.ru
Компания EV Group (EVG), являющаяся ведущим поставщиком оборудования сварки пластин и литографии для производства полупроводниковых, микроэлектромеханических и нанотехнологичных устройств, представила полностью автоматическую систему совмещения фотошаблонов второго поколения EVG620HBL Gen II для крупносерийного выпуска светодиодов с повышенной яркостью (HB-LED). Система Gen II, представленная через год после выпуска системы первого поколения EVG620HBL, является платформой, позволяющей реализовать потребности покупателей в производстве светодиодов HB-LED с учетом требования снижения расходов на приобретение и эксплуатацию. Помимо этого система EVG620HBL Gen II оптимизирует затраты производственной площади, производя на 55% больше пластин на квадратный метр чистой комнаты по сравнению с системами конкурентов.
В настоящее время системы сварки и совмещения фотошаблонов компании EVG применяются четырьмя из пяти ведущих производителей устройств HB-LED.
Растущие требования снижения стоимости и увеличения объемов выпуска годных изделий требуют от производителей оборудования переосмыслить подход к предлагаемым затратам на приобретение и эксплуатацию. Это особенно справедливо в области совмещения фотошаблонов с пластинами, где максимизация выхода годных изделий является критически важным условием долговременного развития технологий производства светодиодов. Система EVG620HBL Gen II включает множество новых функций, удовлетворяющих требованиям крупносерийных производителей:
- Улучшенный микроскоп с функцией автоматизированного поиска рисунка шаблона, значительно сокращает время установки и замены маски, что является критически важным фактором обеспечения непрерывного крупносерийного производства.
- Новый робот-манипулятор с возможностью обработки карты годных пластин, что обеспечивает прослеживаемость технологического процесса.
- Улучшенная система совмещения (линейное совмещение), использующая для ориентации сетку одиночных светодиодов вместо реперных знаков, занимающих дорогостоящее пространство пластины.
- Уменьшенная площадь системы сокращает затраты на содержание и эксплуатацию, что увеличивает удельный выход годных пластин на единицу площади чистой комнаты.
Вместе все перечисленные особенности и факторы позволяют с помощью системы EVG620HBL Gen II на 20% снизить затраты на производство одной пластины по сравнению с аналогичными предложениями других производителей.
Системы модельного ряда EVG620HBL, созданные на хорошо зарекомендовавшей себя платформе систем совмещения шаблонов EVG, оборудованы мощным источником ультрафиолетового излучения и фильтром (устанавливается по дополнительному заказу), позволяющим максимизировать выход годных изделий и обеспечить непревзойденную производительность до 165 шестидюймовых пластин в час (до 220 пластин в час в режиме первой печати). Системы EVG620HBL позволяют обрабатывать пластины размером от 2 до 6 дюймов. Другим важным достоинством систем EVG620HBL является наличие специальных программируемых микроскопов, спектр излучения которых можно изменять в соответствии с материалами пластин и слоев, включая сапфир, карбид кремния (SiC), нитрид алюминия (AlN), металл и керамику, для получения максимальной контрастности шаблона.
Информация с сайта ostec-micro.ru.
|