Новости технологии
11 марта 2008
Freescale переходит к 45-нм проектным нормам
Американский производитель микросхем связи компания Freescale Semiconductor Inc. объявила на днях, что переходит к внедрению технологии 45-нм норм производства. Переход к 45-нм проектным нормам произойдет сразу от 90-нм техпроцесса, пропуская промежуточный 65-нм этап. Согласно заявлению, сделанному главным технологом компании Лизой Су (Lisa Su), первые чипы, выпущенные с соблюдением норм 45-нм технологического процесса, ожидаются во второй половине 2008 года.
Freescale Semiconductor, совместно с компаниями IBM и AMD, является одним из главных сподвижников технологии "кремний-на-диэлектрике" (silicon on insulator, SOI). В данный момент компания производит SOI-решения на собственной 200-мм фабрике в г. Остин (США) с соблюдением 90-нм проектных норм. Производство 45-нм микросхем начнется на мощностях сингапурской Chartered Semiconductor Manufacturing. Согласно заверениям г-жи Су, компания будет придерживаться технологии SOI "как минимум до 32-нм технологического процесса".
Напомним, что по итогам 2007 года доходы компании упали на 10% до 5,72 миллиарда долларов США. Однако руководство компании связывает этот результат исключительно с трудностями основного потребителя чипов связи – компании Motorola.
Информация с сайта www.3dnews.ru со ссылкой на www.semiconductor.net.
Автор оригинального текста: Вячеслав Кононов.
|