Уважаемые пользователи! Приглашаем Вас на обновленный сайт проекта: https://industry-hunter.com/
Freescale переходит к 45-нм проектным нормам - ЭЛИНФОРМ
Информационный портал по технологиям производства электроники
Freescale переходит к 45-нм проектным нормам - ЭЛИНФОРМ
На главную страницу Обратная связь Карта сайта

Скоро!

Событий нет.
Главная » Новости » Новости технологии » Freescale переходит к 45-нм проектным нормам

Новости технологии

11 марта 2008

Freescale переходит к 45-нм проектным нормам

Американский производитель микросхем связи компания Freescale Semiconductor Inc. объявила на днях, что переходит к внедрению технологии 45-нм норм производства. Переход к 45-нм проектным нормам произойдет сразу от 90-нм техпроцесса, пропуская промежуточный 65-нм этап. Согласно заявлению, сделанному главным технологом компании Лизой Су (Lisa Su), первые чипы, выпущенные с соблюдением норм 45-нм технологического процесса, ожидаются во второй половине 2008 года.

Freescale Semiconductor, совместно с компаниями IBM и AMD, является одним из главных сподвижников технологии "кремний-на-диэлектрике" (silicon on insulator, SOI). В данный момент компания производит SOI-решения на собственной 200-мм фабрике в г. Остин (США) с соблюдением 90-нм проектных норм. Производство 45-нм микросхем начнется на мощностях сингапурской Chartered Semiconductor Manufacturing. Согласно заверениям г-жи Су, компания будет придерживаться технологии SOI "как минимум до 32-нм технологического процесса".

Напомним, что по итогам 2007 года доходы компании упали на 10% до 5,72 миллиарда долларов США. Однако руководство компании связывает этот результат исключительно с трудностями основного потребителя чипов связи – компании Motorola.

Информация с сайта www.3dnews.ru со ссылкой на www.semiconductor.net.

Автор оригинального текста: Вячеслав Кононов.




Последние новости

АРПЭ провела практическую конференцию "Экспорт российской электроники"
подробнее
Портфельная компания РОСНАНО «РСТ-Инвент» разработала RFID-метки нового поколения WinnyTag Duo
подробнее
Научно-технический семинар «Электромагнитная совместимость. Испытательные комплексы для сертификационных и предварительных испытаний военного, авиационного и гражданского оборудования»
подробнее
Официальное представительство Корпорации Microsemi примет участие в выставке «ЭкспоЭлектроника» 2018
подробнее
Новое оборудование в Технопарке Зубово
подробнее
Избраны органы управления Технологической платформы «СВЧ технологии»
подробнее
«Рязанский Радиозавод» внедряет инструменты бережливого производства
подробнее
© “Элинформ” 2007-2024.
Информационный портал для производителей электроники:
монтаж печатных плат, бессвинцовые технологии, поверхностный монтаж, производство электроники, автоматизация производства