Уважаемые пользователи! Приглашаем Вас на обновленный сайт проекта: https://industry-hunter.com/
Компания FEI объявляет о выпуске новой установки растровой электронной микроскопии высокого разрешения Verios - ЭЛИНФОРМ
Информационный портал по технологиям производства электроники
Компания FEI объявляет о выпуске новой установки растровой электронной микроскопии высокого разрешения Verios  - ЭЛИНФОРМ
На главную страницу Обратная связь Карта сайта

Скоро!

Событий нет.
Главная » Новости » Новое оборудование и материалы » Компания FEI объявляет о выпуске новой установки растровой электронной микроскопии высокого разрешения Verios

Новое оборудование и материалы

01 августа 2012

Компания FEI объявляет о выпуске новой установки растровой электронной микроскопии высокого разрешения Verios

Изображение с сайта www.globalsmt.net

Система обеспечивает высокое разрешение и контраст на основе быстрой и легкой в использовании платформы для проведения точных исследований чувствительных материалов полупроводниковых изделий и материаловедения.

Компания FEI, специализирующаяся на разработке измерительных приборов и поставке систем визуализации и анализа данных для научно-исследовательских целей и промышленности, укрепляет свое лидерство на рынке РЭМ-систем — растровой электронной микроскопии (Scanning Electron Microscopy, SEM) высокого разрешения, выпустив новую систему Verios™ XHR SEM. Система Verios обеспечивает субнанометровое разрешение и улучшенный контраст, необходимый для точных измерений чувствительных к пучку электронов материалов в области производства полупроводников и задач материаловедения.

«РЭМ-система Verios XHR позволяет инженерам измерять материалы и структуры, размеры которых слишком малы для традиционных РЭМ, — констатирует Руди Келльнер (Rudy Kellner), вице президент и топ-менеджер блока электронного бизнеса компании FEI. — В комбинации с нашим программным обеспечением IC3D™ система Verios является функциональным инструментом, обеспечивающем точные измерения, например, для техпроцесса 22 нм и ниже».

Система Verios является вторым поколением в РЭМ-семействе XHR компании FEI. При низком уровне напряжения, там где характеристики традиционных РЭМ-систем значительно ухудшаются, усовершенствованная оптика системы Verios обеспечивает великолепную чувствительность к деталям исследуемой поверхности. Система Verios позволяет получить субнанометровое разрешение при ускоряющем напряжении от 1 кВ до 30 кВ.

В дополнение к характеристикам экстремально высокого разрешения система Verios содержит в себе новые технологии детектирования. Оптимизированный прием сигнала и усовершенствованные возможности фильтрации не только обеспечивают повышенную и более гибкую генерацию контраста, но также позволяет увеличить количество исследуемых образцов.

По материалам www.globalsmt.net  со ссылкой на www.fei.com.





Последние новости

АРПЭ провела практическую конференцию "Экспорт российской электроники"
подробнее
Портфельная компания РОСНАНО «РСТ-Инвент» разработала RFID-метки нового поколения WinnyTag Duo
подробнее
Научно-технический семинар «Электромагнитная совместимость. Испытательные комплексы для сертификационных и предварительных испытаний военного, авиационного и гражданского оборудования»
подробнее
Официальное представительство Корпорации Microsemi примет участие в выставке «ЭкспоЭлектроника» 2018
подробнее
Новое оборудование в Технопарке Зубово
подробнее
Избраны органы управления Технологической платформы «СВЧ технологии»
подробнее
«Рязанский Радиозавод» внедряет инструменты бережливого производства
подробнее
© “Элинформ” 2007-2025.
Информационный портал для производителей электроники:
монтаж печатных плат, бессвинцовые технологии, поверхностный монтаж, производство электроники, автоматизация производства