Новое оборудование и материалы
01 августа 2012
Компания FEI объявляет о выпуске новой установки растровой электронной микроскопии высокого разрешения Verios
Изображение с сайта www.globalsmt.net
Система обеспечивает высокое разрешение и контраст на основе быстрой и легкой в использовании платформы для проведения точных исследований чувствительных материалов полупроводниковых изделий и материаловедения.
Компания FEI, специализирующаяся на разработке измерительных приборов и поставке систем визуализации и анализа данных для научно-исследовательских целей и промышленности, укрепляет свое лидерство на рынке РЭМ-систем — растровой электронной микроскопии (Scanning Electron Microscopy, SEM) высокого разрешения, выпустив новую систему Verios™ XHR SEM. Система Verios обеспечивает субнанометровое разрешение и улучшенный контраст, необходимый для точных измерений чувствительных к пучку электронов материалов в области производства полупроводников и задач материаловедения.
«РЭМ-система Verios XHR позволяет инженерам измерять материалы и структуры, размеры которых слишком малы для традиционных РЭМ, — констатирует Руди Келльнер (Rudy Kellner), вице президент и топ-менеджер блока электронного бизнеса компании FEI. — В комбинации с нашим программным обеспечением IC3D™ система Verios является функциональным инструментом, обеспечивающем точные измерения, например, для техпроцесса 22 нм и ниже».
Система Verios является вторым поколением в РЭМ-семействе XHR компании FEI. При низком уровне напряжения, там где характеристики традиционных РЭМ-систем значительно ухудшаются, усовершенствованная оптика системы Verios обеспечивает великолепную чувствительность к деталям исследуемой поверхности. Система Verios позволяет получить субнанометровое разрешение при ускоряющем напряжении от 1 кВ до 30 кВ.
В дополнение к характеристикам экстремально высокого разрешения система Verios содержит в себе новые технологии детектирования. Оптимизированный прием сигнала и усовершенствованные возможности фильтрации не только обеспечивают повышенную и более гибкую генерацию контраста, но также позволяет увеличить количество исследуемых образцов.
По материалам www.globalsmt.net со ссылкой на www.fei.com.
|