Уважаемые пользователи! Приглашаем Вас на обновленный сайт проекта: https://industry-hunter.com/
РОСНАНО инвестирует в безмасочную литографию с разрешением до 10 нм - ЭЛИНФОРМ
Информационный портал по технологиям производства электроники
РОСНАНО инвестирует в безмасочную литографию с разрешением до 10 нм - ЭЛИНФОРМ
На главную страницу Обратная связь Карта сайта

Скоро!

Событий нет.
Главная » Новости » Новости проектов отрасли » РОСНАНО инвестирует в безмасочную литографию с разрешением до 10 нм

Новости проектов отрасли

24 августа 2012

РОСНАНО инвестирует в безмасочную литографию с разрешением до 10 нм

Изображение с сайта www.rusnano.com

РОСНАНО и MAPPER Lithography, голландская компания-разработчик систем безмасочной литографии, объявляют о начале инвестиций в производство инновационного литографического оборудования. Общая сумма сделки составляет € 80 млн, доля РОСНАНО — € 40 млн. Такую же сумму вкладывают акционеры MAPPER — инвестиционные компании ADP Industries, Parcom Capital (Parc-IT) и Hoving & Partners, технологические компании Technolution и DEMCON, ряд частных инвесторов и семейных инвестиционных фондов, а также Агентство Нидерландов при министерстве экономики, сельского хозяйства и инноваций. Существенная часть инвестиций РОСНАНО будет направлена на создание в России производства ключевого компонента литографических систем MAPPER.

Компания MAPPER Lithography, основанная в Делфтском техническом университете, разрабатывает литографическое оборудование нового поколения на основе технологии множественных электронных лучей (multiple e-beam), позволяющей обойтись без дорогостоящих литографических масок. Технология MAPPER сочетает ранее практически недостижимую разрешающую способность (22 нм и выше) с высокой производительностью, позволяя обрабатывать до 100 кремниевых подложек в час.

Инвестиции позволят компании MAPPER выпустить несколько поколений оборудования Matrix. Модель Matrix 1.1, намеченная к выпуску в 2012 году, использует более 1300 электронных лучей и обрабатывает одну подложку в час. Модель Matrix 10.1, использующая 13 260 электронных лучей, обладает производительностью 10 подложек в час. Кластерная система Matrix 10.10, состоящая из десяти установок Matrix 10.1, способна обрабатывать 100 подложек в час, что соответствует требованиям массового производства микросхем. В рамках инвестиционного проекта производственные мощности MAPPER будут расширены до 20 литографических машин в год.

В России планируется создать предприятие по выпуску электронной оптики на основе микроэлектромеханических систем (МЭМС) — ключевого компонента оборудования MAPPER. Производство требует использования уникальных технологий в области МЭМС. Мощность российского предприятия составит до 20 систем электронной оптики в год, каждая из которых способна управлять 13 260 параллельными электронными лучами. Проект ориентирован на сотрудничество с ведущими российскими профильными исследовательскими институтами.

«Поддержка, которую мы получили в этом раунде финансирования, отражает наши успехи в инновационной технологии электронно-лучевой литографии, которую мы развивали последние десять лет. Сегодня мы готовы представить наш продукт на рынок и гордимся, что РОСНАНО решила поддержать этот масштабный проект», — отметил CEO и сооснователь компании MAPPER Берт Ян Камфербеек.

«Проект с MAPPER Lithography занимает особое место в портфеле РОСНАНО. Разработки компании находятся в самом начале цепочки создания стоимости в микроэлектронике. Мы уверены, что инвестиции в эту компанию укрепят синергию микроэлектронных проектов РОСНАНО», — подчеркнул управляющий директор РОСНАНО Дмитрий Лисенков.

Для продвижения безмасочной литографии на базе платформы MAPPER развернута международная производственно-исследовательская программа IMAGINE, которую координирует ведущий мировой институт по прикладным исследованиям в микроэлектронике CEA-Leti. Основными участниками являются крупные производители микроэлектроники — TSMC (Тайвань) и STMicroelectronics (Франция). В середине 2009 года в чистых комнатах CEA-Leti был установлен промышленный прототип установки MAPPER.

В начале 2012 года в рамках программы IMAGINE компания MAPPER достигла размерности элементов 22 нм, что соответствует следующим технологическим стандартам в микроэлектронике — 14 нм и 10 нм. В этом году CEA-Leti и MAPPER объявили о продлении программы IMAGINE на три года. В течение этого времени в CEA-Leti будет установлено опытное оборудование Matrix, на котором ведущие мировые производители микроэлектроники смогут опробовать безмасочную технологию в реальной производственной обстановке.

Технология MAPPER. Создание чипа на кремниевой подложке в безмасочной литографии можно сравнить с формированием картинки на экране электронно-лучевой телевизионной трубки. Картинка формируется когда луч, который быстро обегает телевизионный экран, попадает на светящееся вещество — люминофор. В оборудовании MAPPER вместо видимой картинки электронный луч оставляет следы в фоточувствительном слое на поверхности кремниевой подложки.

Видео, иллюстрирующее работу литографического оборудования нового поколения компании MAPPER.  

Информация с сайта www.rusnano.com.





Последние новости

АРПЭ провела практическую конференцию "Экспорт российской электроники"
подробнее
Портфельная компания РОСНАНО «РСТ-Инвент» разработала RFID-метки нового поколения WinnyTag Duo
подробнее
Научно-технический семинар «Электромагнитная совместимость. Испытательные комплексы для сертификационных и предварительных испытаний военного, авиационного и гражданского оборудования»
подробнее
Официальное представительство Корпорации Microsemi примет участие в выставке «ЭкспоЭлектроника» 2018
подробнее
Новое оборудование в Технопарке Зубово
подробнее
Избраны органы управления Технологической платформы «СВЧ технологии»
подробнее
«Рязанский Радиозавод» внедряет инструменты бережливого производства
подробнее
© “Элинформ” 2007-2024.
Информационный портал для производителей электроники:
монтаж печатных плат, бессвинцовые технологии, поверхностный монтаж, производство электроники, автоматизация производства