Новое оборудование и материалы
21 августа 2013
Новая серия объективов CFI60-2 для промышленных микроскопов NIKON
Логотип и изображения с сайта www.sovtest.ru
Президент корпорации Nikon (Япония) Макото Кимура (Makoto Kimura) официально объявил о новой серии объективов CFI60-2 для промышленных микроскопов. Новые объективы CFI60-2 обладают повышенной устойчивостью к хроматическим аберрациям (искажениям), а также имеют большие рабочие расстояния1 по сравнению с объективами серии CFI60.
Микроскопы давно используются в различных областях промышленности для контроля производства полупроводниковых изделий, электронных компонентов, жидкокристаллических панелей, а также для анализа различных дефектов и материалов.
Поскольку разные образцы наблюдаются с использованием различных микроскопических методов, микроскопы становятся совершеннее и сложнее. Неизменными остаются требования, предъявляемые к оборудованию: простота эксплуатации и высокие оптические характеристики.
Для удовлетворения этих требований компания Nikon разработала новую серию объективов CFI60-2. Они обладают высокими оптическими характеристиками, имеют большее рабочее расстояние и обеспечивают великолепное качество наблюдаемой картинки.
___________
1Рабочее расстояние (WD) — это расстояние от конечной точки объектива до начальной точки исследуемого образца. Большое рабочее расстояние позволяет избежать повреждений исследуемого объекта и объектива.
Информация с сайта www.sovtest.ru.
|