Уважаемые пользователи! Приглашаем Вас на обновленный сайт проекта: https://industry-hunter.com/
Бесконтактная фотолитографическая система для экономичного массового производства пассивных и активных компонентов фотоники - ЭЛИНФОРМ
Информационный портал по технологиям производства электроники
Бесконтактная фотолитографическая система для экономичного массового производства пассивных и активных компонентов фотоники - ЭЛИНФОРМ
На главную страницу Обратная связь Карта сайта

Скоро!

Событий нет.
Главная » Новости » Новое оборудование и материалы » Бесконтактная фотолитографическая система для экономичного массового производства пассивных и активных компонентов фотоники

Новое оборудование и материалы

25 ноября 2013

Бесконтактная фотолитографическая система для экономичного массового производства пассивных и активных компонентов фотоники

Изображение с сайта www.evgroup.com

Компания EV Group (EVG) представила бесконтактную, основанную на методе маскирования фотолитографическую установку EVG®PHABLE™, реализующую операцию экспонирования при производстве фотонных компонентов. Система обеспечивает высокое разрешение и экономичное микро- и наноструктурирование пассивных и активных компонентов, например, создает на полупроводниковых пластинах шаблонные структуры светодиодов.

Установка EVG PHABLE — первое полностью автоматическое производственное оборудование, реализующее технологию PHABLE™ (сокр. от photonics enabler — «помощник в области фотоники») швейцарской компании Eulitha AG.

Система EVG PHABLE сочетает низкую стоимость владения, легкость работы и возможности осуществления бесконтактной микрозазорной фотолитографии с субмикронным разрешением фотолитографических степперов для обеспечения экономичного автоматизированного мультиплицирования шаблонов фотонных компонентов на большие площади, что обеспечивает способность данной системы работать с сапфировыми подложками или повышать светоотдачу (и таким образом эффективность) светодиодных устройств. Метод сдвиговой фотолитографии, основанный на эффекте Талбота, — Displacement Talbot Lithography — позволяет производить структуры с размерами от 3 мкм до 200 нм без снижения глубины резкости и стыков, что может возникнуть при работе с другим оборудованием. В результате достигается возможноть формирования структур на подложках, достигающих 6 дюймов в диаметре, за один шаг экспозиции. Это позволяет поддерживать высокую производительность системы EVG PHABLE вне зависимости от габаритов полупроводниковой пластины, а также сохранять очень большие зазоры экспозиции (до нескольких сотен микрон) между маской и пластиной, таким образом избегая загрязнения маски, что свойственно данной технологии.

Система EVG PHABLE способна реализовывать как одномерные шаблоны (линии и зазоры), так и двухмерные, такие как шестиугольные и квадратные решетки. Таким образом, в системе нашли поддержку различные способы повышения светоотдачи светодиодов.

Система EVG PHABLE может быть настроена на производство изделий из области фотогальваники, оптики и биомедицины.

По материалам www.evgroup.com.





Последние новости

АРПЭ провела практическую конференцию "Экспорт российской электроники"
подробнее
Портфельная компания РОСНАНО «РСТ-Инвент» разработала RFID-метки нового поколения WinnyTag Duo
подробнее
Научно-технический семинар «Электромагнитная совместимость. Испытательные комплексы для сертификационных и предварительных испытаний военного, авиационного и гражданского оборудования»
подробнее
Официальное представительство Корпорации Microsemi примет участие в выставке «ЭкспоЭлектроника» 2018
подробнее
Новое оборудование в Технопарке Зубово
подробнее
Избраны органы управления Технологической платформы «СВЧ технологии»
подробнее
«Рязанский Радиозавод» внедряет инструменты бережливого производства
подробнее
© “Элинформ” 2007-2025.
Информационный портал для производителей электроники:
монтаж печатных плат, бессвинцовые технологии, поверхностный монтаж, производство электроники, автоматизация производства