Уважаемые пользователи! Приглашаем Вас на обновленный сайт проекта: https://industry-hunter.com/
Исследователи сформировали на кремниевом чипе межсоединения с рекордной плотностью тока - ЭЛИНФОРМ
Информационный портал по технологиям производства электроники
Исследователи сформировали на кремниевом чипе межсоединения с рекордной плотностью тока - ЭЛИНФОРМ
На главную страницу Обратная связь Карта сайта

Скоро!

Событий нет.
Главная » Новости » Новости перспективных технологий » Исследователи сформировали на кремниевом чипе межсоединения с рекордной плотностью тока

Новости перспективных технологий

30 января 2014

Исследователи сформировали на кремниевом чипе межсоединения с рекордной плотностью тока

Изображения с сайта www.3dnews.ru

Группа японских исследователей заявила о создании массива микро-межсоединений с минимальной шириной проводника 0,5 мкм, используя композитный материал из одностенных углеродных нанотрубок и меди. Главной отличительной особенностью разработки является плотность тока в 100 раз выше по сравнению с традиционными медными проводниками. При этом коэффициент термического расширения материала примерно такой же низкий, как и у кремния. Таким образом, даже протекание большого тока и соответственное резкое повышение температуры не вызовут сильных деформаций.

Фото: techon.nikkeibp.co.jp.

Команда исследователей состоит из сотрудников Ассоциации технологического исследования одностенных углеродных нанотрубок (TASC), Национального института передовой промышленной науки и технологии Японии (AIST) и Организации по разработке новой энергии и промышленной технологии (NEDO). Детальнее о своём открытии они расскажут в рамках конференции nano tech 2014, которая проходит в конце текущего месяца.

Фото: techon.nikkeibp.co.jp.

Ещё в июле прошлого года TASC и AIST заявили об использовании композитного материала из углеродных нанотрубок и меди. Их материал характеризовался максимально допустимой плотностью тока 108А/см2. Но тогда исследователи ещё не разработали метод для формирования межсоединений в рамках полупроводникового производственного процесса. Теперь им удалось сформировать это микро-межсоединение на кремниевой микросхеме. Среди использованных технологий особо выделяется так называемый «метод супер роста», разработанный AIST. Вначале с помощью этой технологии формировался массив нанотрубок, после чего медь присоединялась методом гальванопокрытия.

Планы по коммерциализации своей разработки исследователи не уточнили.

Информация с сайта www.3dnews.ru с ссылкой на techon.nikkeibp.co.jp.

Автор оригинального текста: Александр Будик.





Последние новости

АРПЭ провела практическую конференцию "Экспорт российской электроники"
подробнее
Портфельная компания РОСНАНО «РСТ-Инвент» разработала RFID-метки нового поколения WinnyTag Duo
подробнее
Научно-технический семинар «Электромагнитная совместимость. Испытательные комплексы для сертификационных и предварительных испытаний военного, авиационного и гражданского оборудования»
подробнее
Официальное представительство Корпорации Microsemi примет участие в выставке «ЭкспоЭлектроника» 2018
подробнее
Новое оборудование в Технопарке Зубово
подробнее
Избраны органы управления Технологической платформы «СВЧ технологии»
подробнее
«Рязанский Радиозавод» внедряет инструменты бережливого производства
подробнее
© “Элинформ” 2007-2024.
Информационный портал для производителей электроники:
монтаж печатных плат, бессвинцовые технологии, поверхностный монтаж, производство электроники, автоматизация производства