Компания ACD разработала систему проверки Virtual Gerber®
Компания ACD, крупный поставщик различных услуг для электронной промышленности, поднимает возможности проверки плат, подготовленных в различных системах CAM (Computer-aided manufacturing) и представленных в формате Gerber на новый уровень, при помощи новой системы виртуального наложения слоев. подробнее
08 августа 2011
Инновационное решение по эффективному управлению производством от ООО «Совтест АТЕ»
В рамках развития инновационного направления деятельности ООО «Совтест АТЕ» разработало систему «Канбан», представляющую собой программно-аппаратный комплекс для современного управления логистическими и производственными процессами. Эффективность данной системы подтверждает ряд успешно реализованных проектов на крупных предприятиях по производству электронных узлов и изделий микроэлектроники. подробнее
28 июля 2011
Выпущена новая редакция стандарта IPC-CH-65
В связи со изменениями в производстве электроники, произошедшими за последние годы, отмывка печатных плат и сборок становится все более сложной задачей. Чтобы помочь инженерному сообществу разобраться с этой проблемой, организация IPC выпустила редакцию B стандарта IPC-CH-65, «Руководящие указания по отмывке печатных плат и сборок» (Guidelines for Cleaning of Printed Boards & Assemblies). подробнее
Обеспечение учебных заведений электронными компонентами
В рамках программы МОСТ Предприятие Остек на безвозмездной основе осуществляет передачу электронных компонентов импортного производства учебным заведениям для использования в учебном процессе. подробнее
20 мая 2011
Солнечные панели на наноантеннах собирают 90% света
Современные солнечные панели используют только 20% солнечного излучения. Ученый из Университета Миссури разработал гибкие панели, которые собирают более 90% солнечного света. Автор изобретения адъюнкт-профессор Патрик Пинеро (Patrick Pinhero) планирует сделать первые коммерческие образцы новых высокоэффективных панелей в течение ближайших пяти лет. подробнее
12 мая 2011
Официально опубликован полный текст стандартов по антистатической защите электронных устройств
Официально опубликованы итоговые тексты национальных стандартов по антистатической защите чувствительных электронных устройств и компонентов: ГОСТ Р 53734.5.1-2009 (МЭК 61340.5-1-2007) «Электростатика. Защита электронных устройств от электростатических явлений. Общие требования». и ГОСТ Р 53734.5.2-2009 (МЭК 61340.5-2-2007) «Электростатика. Защита электронных устройств от электростатических явлений. Руководство по применению». подробнее
06 мая 2011
Выпущен стандарт IPC J-STD-001E-RU «Требования к электрическим и электронным сборкам, изготавливаемым с помощью пайки» на русском языке
Ассоциация IPC – Association Connecting Electronics Industries® сообщает о выпуске русскоязычного издания редакции E стандарта IPC J-STD-001, Требования к электрическим и электронным сборкам, изготавливаемым с помощью пайки. Документ J-STD-001E, признанный по всему миру в качестве единого стандарта для обеспечения согласованности в отрасли по вопросам паяльных материалов и процессов пайки, содержит данные по передовым технологиям и новые и пересмотренные критерии для изделий всех трех классов, а также расширенную информацию по производству бессвинцовой продукции. подробнее
Intel начинает выпускать память по 20-нм техпроцессу
Совместное предприятие Intel и Micron приступило к поставкам тестовых образцов чипов NAND-памяти на базе новой 20-нм технологии. Новые модули на 30-40% меньше существующих решений, что позволяет улучшить свойства потребительских устройств: поместить в них больше памяти или более емкую аккумуляторную батарею. подробнее
Новая концепция SIPLACE для многономенклатурного производства электроники – «Случайная Установка» «Случайная Установка» (”Random Setup”) позволяет операторам размещать питатели с компонентами на любых позициях сменных столов производственной линии. Монтажные автоматы SIPLACE автоматически распознают вновь добавленные питатели серии Х и также автоматически корректируют программу сборки. Производители электроники получают большую выгоду не только от более быстрой установки питателей, но и от повышения производительности линии за счет исключения необходимости остановки оборудования. подробнее
30 марта 2011
Итоги практикума «Отмывка и защита печатных узлов» 16 марта 2011 года в офисе ЗАО Предприятие Остек прошел практикум «Отмывка и защита печатных узлов». В мероприятии приняли участие более 57 специалистов отечественных производств электронной отрасли. подробнее
03 марта 2011
Американцы создают конкурента AMOLED-экранам Американская компания NanoPhotonica из Флориды планирует представить новый тип дисплеев для мобильных устройств на базе QLED-матрицы. Он будет иметь высокое качество изображения, чем аналоги, но будет дешевле в производстве. подробнее
17 декабря 2010
Экскурсии для преподавателей и студентов на передовые производства ЗАО Предприятие Остек на регулярной основе организует экскурсии преподавателей и студентов московских колледжей и техникумов на передовые предприятия. Несколько дней назад состоялся визит группы преподавателей одного из московских колледжей на производство ООО «Фаствел». подробнее
06 декабря 2010
Поможем колледжам в подготовке специалистов! ЗАО Предприятие Остек предлагает всем предприятиям отрасли поучаствовать в обеспечении профильных колледжей образцами для проведения практических занятий – электронными компонентами и печатными платами. подробнее
03 декабря 2010
IBM: очередной шаг к системам с оптическими соединениями Исследователи компании IBM представили новую технологию создания электронных компонентов, позволяющую интегрировать электрические и оптические устройства на одной подложке, в рамках единого производственного КМОП-процесса. Специалисты надеются, что запатентованная технология Silicon Nanophotonics позволит кардинально ускорить скорость и производительность обмена между компонентами, и станет существенной частью амбициозной программы экзамасштабных вычислений, имеющей целью создание суперкомпьютера, способного производить миллион триллионов вычислений в секунду. подробнее
30 ноября 2010
Учебные курсы ЗАО Предприятие Остекдля преподавателей и студентов В ноябре 2010 года сотрудниками Направления развития образования и прикладных исследований Предприятия Остек организованы и проведены два мероприятия, направленных на подготовку кадров. подробнее
17 ноября 2010
Компания EV Group представляет технологию наноимпринтной литографии мягким УФ-излучением Компания EV Group предлагает новую технологию наноимпринтной литографии молекулярного уровня с использованием мягких штампов, позволяющую формировать масочные структуры со сверхвысокой разрешающей способностью, достигающей значений в 12,5 нм. Данная технология позволяет с высокой повторяемостью формировать рисунок на больших площадях. Используя мягкие штампы, в новой технологии можно осуществлять УФ-наноимпринтную фотолитографию на уже существующем оборудовании EVG. подробнее